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CuIn Sputtering लक्ष्य उच्च शुद्धता पतली फिल्म Pvd कोटिंग कस्टम मेड

कॉपर ईण्डीयुम

संक्षिप्त वर्णन:

श्रेणी

मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य

रासायनिक सूत्र

CuIn

संघटन

कॉपर ईण्डीयुम

पवित्रता

99.99% ,99.95% ,99.99%

आकार

प्लेट्स,स्तंभ लक्ष्य,चाप कैथोड,कस्टम निर्मित

उत्पादन प्रक्रिया

वैक्यूम मेल्टिंग

उपलब्ध आकार

एल≤2000mm,W≤200mm


वास्तु की बारीकी

कॉपर इंडियम मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य पारंपरिक रूप से वैक्यूम इंडक्शन मेल्टिंग के माध्यम से निर्मित होता है।इंडियम आवर्त सारणी में लगभग सभी तत्वों के साथ विभिन्न प्रकार के इंडियम मिश्र धातु बना सकता है।कॉपर इंडियम मिश्र धातु एक द्विआधारी मिश्र धातु है, इसे आमतौर पर कम पिघलने वाले मिश्र धातु और टांकने वाले मिश्र धातु के रूप में उपयोग किया जाता है।

कॉपर इंडियम मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य का ध्यान देने योग्य लाभ है कि यह उत्कृष्ट विद्युत चालकता और परिष्कृत अनाज के आकार के साथ पीवीडी कोटिंग्स का उत्पादन कर सकता है।यह तांबे (Cu), गैलियम (Ga), इंडियम (In) और सेलेनियम (Se) की रचनाओं के साथ CIGS परतों के निर्माण में मदद कर सकता है और उनके घटक भागों के नाम पर रखा गया है।CIGS में उच्च फोटोवोल्टिक रूपांतरण दक्षता है, इसलिए यह सौर कोशिकाओं के लिए अवशोषित परत के रूप में उपयोग के लिए अनुकूल है।

रिच स्पेशल मैटेरियल्स स्पटरिंग टारगेट के निर्माण में माहिर हैं और ग्राहकों के विनिर्देशों के अनुसार कॉपर इंडियम स्पटरिंग मैटेरियल्स का उत्पादन कर सकते हैं।अधिक जानकारी के लिए हमें संपर्क करें।


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