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CuIn स्पटरिंग लक्ष्य उच्च शुद्धता पतली फिल्म Pvd कोटिंग कस्टम मेड

कॉपर इंडियम

संक्षिप्त वर्णन:

वर्ग

मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य

रासायनिक सूत्र

CuIn

संघटन

कॉपर इंडियम

पवित्रता

99.9%,99.95%,99.99%

आकार

प्लेट्स, कॉलम लक्ष्य, आर्क कैथोड, कस्टम-निर्मित

उत्पादन प्रक्रिया

वैक्यूम पिघलना

उपलब्ध आकार

L≤2000mm,W≤200mm


वास्तु की बारीकी

उत्पाद टैग

कॉपर इंडियम मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य पारंपरिक रूप से वैक्यूम इंडक्शन मेल्टिंग के माध्यम से निर्मित किया जाता है।आवर्त सारणी में लगभग सभी तत्वों के साथ इंडियम विभिन्न प्रकार के इंडियम मिश्र धातु बना सकता है।कॉपर इंडियम मिश्र धातु एक द्विआधारी मिश्र धातु है, इसका उपयोग आमतौर पर कम पिघलने वाले मिश्र धातु और ब्रेज़िंग मिश्र धातु के रूप में किया जाता है।

कॉपर इंडियम मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य का उल्लेखनीय लाभ यह है कि यह उत्कृष्ट विद्युत चालकता और परिष्कृत अनाज के आकार के साथ पीवीडी कोटिंग्स का उत्पादन कर सकता है।यह तांबे (Cu), गैलियम (Ga), इंडियम (In) और सेलेनियम (Se) की संरचना के साथ CIGS परतों के निर्माण में मदद कर सकता है और उनके घटक भागों के नाम पर रखा गया है।सीआईजीएस में उच्च फोटोवोल्टिक रूपांतरण दक्षता है, इसलिए यह सौर कोशिकाओं के लिए अवशोषित परत के रूप में उपयोग के लिए अनुकूल है।

रिच स्पेशल मटेरियल स्पटरिंग टारगेट के निर्माण में माहिर है और ग्राहकों के विनिर्देशों के अनुसार कॉपर इंडियम स्पटरिंग सामग्री का उत्पादन कर सकता है।अधिक जानकारी के लिए हमें संपर्क करें।


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