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FeTa स्पटरिंग लक्ष्य उच्च शुद्धता पतली फिल्म Pvd कोटिंग कस्टम मेड

आयरन टैंटलम

संक्षिप्त वर्णन:

वर्ग

मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य

रासायनिक सूत्र

FeTa

संघटन

आयरन टैंटलम

पवित्रता

99.9%,99.95%,99.99%

आकार

प्लेट्स, कॉलम लक्ष्य, आर्क कैथोड, कस्टम-निर्मित

उत्पादन प्रक्रिया

वैक्यूम पिघलना

उपलब्ध आकार

L≤200mm,W≤200mm


वास्तु की बारीकी

उत्पाद टैग

आयरन टैंटलम स्पटरिंग लक्ष्य विवरण

आयरन टैंटलम मिश्र धातु वाष्पीकरण स्रोतों, इलेक्ट्रॉन ट्यूबों, कृत्रिम उपकरणों और रेक्टिफायर के लिए एक उपयुक्त सामग्री है।हम उच्च शुद्धता और समरूप संरचना के साथ Fe-Ta मिश्र धातु प्राप्त करने के लिए कास्टिंग और तेजी से जमने की उन्नत तकनीक का उपयोग करते हैं।हमारे द्वारा निर्मित लक्ष्य में उत्कृष्ट यांत्रिक गुण हैं और यह परिष्कृत सतह परतें उत्पन्न कर सकता है।

आयरन टैंटलम स्पटरिंग लक्ष्य पैकेजिंग

कुशल पहचान और गुणवत्ता नियंत्रण सुनिश्चित करने के लिए हमारे आयरन टैंटलम स्पटर लक्ष्य को स्पष्ट रूप से टैग और बाहरी रूप से लेबल किया गया है।भंडारण या परिवहन के दौरान होने वाली किसी भी क्षति से बचने के लिए बहुत सावधानी बरती जाती है।

संपर्क करें

आरएसएम के आयरन टैंटलम स्पटरिंग लक्ष्य अति उच्च शुद्धता और एक समान हैं।वे विभिन्न रूपों, शुद्धता, आकार और कीमतों में उपलब्ध हैं।

हम विभिन्न प्रकार के ज्यामितीय रूपों की आपूर्ति कर सकते हैं: ट्यूब, आर्क कैथोड, प्लेनर या कस्टम-निर्मित।हमारे उत्पादों में उत्कृष्ट यांत्रिक गुण, सजातीय सूक्ष्म संरचना, बिना किसी अलगाव, छिद्र या दरार वाली पॉलिश सतह शामिल है।

हम उत्कृष्ट प्रदर्शन के साथ-साथ मोल्ड कोटिंग, सजावट, ऑटोमोबाइल पार्ट्स, लो-ई ग्लास, सेमी-कंडक्टर इंटीग्रेटेड सर्किट, पतली फिल्म में उपयोग के लिए उच्चतम संभव घनत्व और सबसे छोटे संभव औसत अनाज आकार के साथ उच्च शुद्धता वाली पतली फिल्म कोटिंग सामग्री का उत्पादन करने में विशेषज्ञ हैं। प्रतिरोध, ग्राफिक डिस्प्ले, एयरोस्पेस, चुंबकीय रिकॉर्डिंग, टच स्क्रीन, पतली फिल्म सौर बैटरी और अन्य भौतिक वाष्प जमाव (पीवीडी) अनुप्रयोग।कृपया हमें स्पटरिंग लक्ष्यों और सूचीबद्ध नहीं की गई अन्य जमाव सामग्री पर वर्तमान मूल्य निर्धारण के लिए एक जांच भेजें।


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