MoNb स्पटरिंग लक्ष्य उच्च शुद्धता पतली फिल्म PVD कोटिंग कस्टम मेड

मोलिब्डेनम नाइओबियम लक्ष्य मोलिब्डेनम और नाइओबियम पाउडर को मिश्रित करके और उसके बाद पूर्ण घनत्व तक संघनन करके तैयार किए जाते हैं।इस प्रकार संकुचित सामग्री को वैकल्पिक रूप से सिंटर किया जाता है और फिर वांछित लक्ष्य आकार में बनाया जाता है।
मोलिब्डेनम नाइओबियम स्पटरिंग लक्ष्य में ऊंचे तापमान पर उच्च गलनांक, शक्ति और कठोरता होती है।यह थर्मल विस्तार के कम गुणांक के साथ उत्कृष्ट गर्मी और विद्युत चालकता भी प्रदर्शित करता है।मोलिब्डेनम में नाइओबियम मिलाने से लिक्विड-क्रिस्टल डिस्प्ले पिक्सेल में कम से कम तीन गुना सुधार होता है।

मोलिब्डेनम नाइओबियम स्पटरिंग लक्ष्य फ्लैट पैनल डिस्प्ले (एफपीडी) के लिए महत्वपूर्ण सामग्री हैं और लिक्विड क्रिस्टल डिस्प्ले (एलसीडी) स्रोत क्यूबॉइड लिक्विड क्रिस्टल डिस्प्ले, फील्ड उत्सर्जन डिस्प्ले, कार्बनिक प्रकाश उत्सर्जक डिस्प्ले, प्लाज्मा के लिए मोलिब्डेनम-नाइओबियम मिश्र धातु में बड़ी मात्रा में उपयोग किया जाता है। डिस्प्ले पैनल, कैथोडोल्यूमिनसेंस डिस्प्ले, वैक्यूम फ्लोरोसेंट डिस्प्ले, टीएफटी लचीला डिस्प्ले और टच स्क्रीन इत्यादि। पैनल डिस्प्ले प्रक्रियाओं के इलेक्ट्रॉन बीम वाष्पीकरण से उत्सर्जक के शीर्ष छोर पर नाइओबियम जमा हो सकता है, जो उच्च परिभाषा के साथ बड़ी स्क्रीन विकसित करने में बहुत सहायक होगा।

रिच स्पेशल मटेरियल स्पटरिंग टारगेट के निर्माण में माहिर है और ग्राहकों के विनिर्देशों के अनुसार मोलिब्डेनम नाइओबियम स्पटरिंग सामग्री का उत्पादन कर सकता है।अधिक जानकारी के लिए हमें संपर्क करें।