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NiV स्पटरिंग लक्ष्य उच्च शुद्धता पतली फिल्म Pvd कोटिंग कस्टम मेड

निकल वैनेडियम

संक्षिप्त वर्णन:

वर्ग

मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य

रासायनिक सूत्र

एनआईवी

संघटन

निकल वैनेडियम

पवित्रता

99.9%,99.95%,99.99%

आकार

प्लेट्स, कॉलम लक्ष्य, आर्क कैथोड, कस्टम-निर्मित

उत्पादन प्रक्रिया

वैक्यूम पिघलना

उपलब्ध आकार

L≤4000mm,W≤350mm


वास्तु की बारीकी

उत्पाद टैग

निकेल वैनेडियम स्पटरिंग लक्ष्य विवरण

सोने को अक्सर एकीकृत सर्किट परत के जमाव में लगाया जाता है, लेकिन अगर सोने को सिलिकॉन के साथ जोड़ा जाता है तो अक्सर AuSi कम पिघलने वाला यौगिक बनता है, जो विभिन्न परतों के बीच ढीलेपन का कारण बनता है।चिपकने वाली परत के लिए शुद्ध निकल एक अच्छा विकल्प है, जबकि प्रसार को रोकने के लिए निकल और सोने की परत के बीच एक बैरियर परत की भी आवश्यकता होती है।वैनेडियम उच्च गलनांक और उच्च एम्पीयर घनत्व को बनाए रखने की क्षमता के साथ इस आवश्यकता को पूरी तरह से पूरा कर सकता है।इसलिए निकेल, वैनेडियम और सोना तीन सामग्रियां हैं जिनका उपयोग आमतौर पर एकीकृत सर्किट उद्योग में किया जाता है।निकेल वैनेडियम स्पटरिंग टारगेट का निर्माण पिघले हुए निकेल में वैनेडियम मिलाकर किया जाता है।कम लौहचुम्बकत्व के साथ, यह इलेक्ट्रॉनिक उत्पादों के मैग्नेट्रोन स्पटरिंग के लिए एक अच्छा विकल्प है, जो एक समय में निकल परत और वैनेडियम परत का उत्पादन कर सकता है।

Ni-7V wt% अशुद्धता सामग्री

पवित्रता

मुख्य घटक(wt%)

अशुद्धता रसायनपीपीएम

कुल मिलाकर अशुद्धता(≤पीपीएम)

 

V

Fe

Al

Si

C

N

O

S

 

99.99

7±0.5

20

30

20

100

30

100

20

100

99.95

7±0.5

200

200

200

100

100

200

50

500

99.9

7±0.5

300

300

300

100

100

200

50

500

निकल वैनेडियम स्पटरिंग लक्ष्य पैकेजिंग

कुशल पहचान और गुणवत्ता नियंत्रण सुनिश्चित करने के लिए हमारे निकेल वैनेडियम स्पटर लक्ष्य को स्पष्ट रूप से टैग और बाहरी रूप से लेबल किया गया है।भंडारण या परिवहन के दौरान होने वाली किसी भी क्षति से बचने के लिए बहुत सावधानी बरती जाती है।

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आरएसएम के निकेल वैनेडियम स्पटरिंग लक्ष्य अति उच्च शुद्धता और एक समान हैं।वे विभिन्न रूपों, शुद्धता, आकार और कीमतों में उपलब्ध हैं।हम उत्कृष्ट प्रदर्शन के साथ-साथ मोल्ड कोटिंग, सजावट, ऑटोमोबाइल पार्ट्स, लो-ई ग्लास, सेमी-कंडक्टर इंटीग्रेटेड सर्किट, पतली फिल्म में उपयोग के लिए उच्चतम संभव घनत्व और सबसे छोटे संभव औसत अनाज आकार के साथ उच्च शुद्धता वाली पतली फिल्म कोटिंग सामग्री का उत्पादन करने में विशेषज्ञ हैं। प्रतिरोध, ग्राफिक डिस्प्ले, एयरोस्पेस, चुंबकीय रिकॉर्डिंग, टच स्क्रीन, पतली फिल्म सौर बैटरी और अन्य भौतिक वाष्प जमाव (पीवीडी) अनुप्रयोग।कृपया हमें स्पटरिंग लक्ष्यों और सूचीबद्ध नहीं की गई अन्य जमाव सामग्री पर वर्तमान मूल्य निर्धारण के लिए एक जांच भेजें।


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