1. मैग्नेट्रोन स्पटरिंग विधि:
मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग को डीसी स्पटरिंग, मध्यम आवृत्ति स्पटरिंग और आरएफ स्पटरिंग में विभाजित किया जा सकता है
A. डीसी स्पटरिंग बिजली की आपूर्ति सस्ती है और जमा फिल्म का घनत्व खराब है।आम तौर पर, घरेलू फोटोथर्मल और पतली-फिल्म बैटरियों का उपयोग कम ऊर्जा के साथ किया जाता है, और स्पटरिंग लक्ष्य प्रवाहकीय धातु लक्ष्य होता है।
बी. आरएफ स्पटरिंग ऊर्जा अधिक है, और स्पटरिंग लक्ष्य गैर-प्रवाहकीय लक्ष्य या प्रवाहकीय लक्ष्य हो सकता है।
सी. मध्यम आवृत्ति स्पटरिंग लक्ष्य सिरेमिक लक्ष्य या धातु लक्ष्य हो सकता है।
2. स्पटरिंग लक्ष्यों का वर्गीकरण और अनुप्रयोग
स्पटरिंग लक्ष्य कई प्रकार के होते हैं और लक्ष्य वर्गीकरण के तरीके भी अलग-अलग होते हैं।आकार के अनुसार इन्हें लम्बे लक्ष्य, वर्गाकार लक्ष्य और गोल लक्ष्य में विभाजित किया गया है;संरचना के अनुसार, इसे धातु लक्ष्य, मिश्र धातु लक्ष्य और सिरेमिक यौगिक लक्ष्य में विभाजित किया जा सकता है;विभिन्न अनुप्रयोग क्षेत्रों के अनुसार, इसे अर्धचालक से संबंधित सिरेमिक लक्ष्य, रिकॉर्डिंग मध्यम सिरेमिक लक्ष्य, प्रदर्शन सिरेमिक लक्ष्य आदि में विभाजित किया जा सकता है। स्पटरिंग लक्ष्य मुख्य रूप से इलेक्ट्रॉनिक और सूचना उद्योगों, जैसे सूचना भंडारण उद्योग में उपयोग किए जाते हैं।इस उद्योग में, प्रासंगिक पतली फिल्म उत्पाद (हार्ड डिस्क, मैग्नेटिक हेड, ऑप्टिकल डिस्क, आदि) तैयार करने के लिए स्पटरिंग लक्ष्य का उपयोग किया जाता है।वर्तमान में।सूचना उद्योग के निरंतर विकास के साथ, बाजार में मध्यम सिरेमिक लक्ष्य रिकॉर्ड करने की मांग बढ़ रही है।रिकॉर्डिंग माध्यम लक्ष्यों का अनुसंधान और उत्पादन व्यापक ध्यान का केंद्र बन गया है।
पोस्ट समय: मई-11-2022