फ़ंक्शन का परिचय और लक्ष्य का उपयोग

लक्ष्य उत्पाद के बारे में, अब एप्लिकेशन बाजार अधिक से अधिक व्यापक हो गया है, लेकिन अभी भी कुछ उपयोगकर्ता लक्ष्य के उपयोग के बारे में बहुत अधिक नहीं समझते हैं, आरएसएम प्रौद्योगिकी विभाग के विशेषज्ञों को इसके बारे में विस्तृत परिचय देने दें,

　　1. माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक्स

सभी अनुप्रयोग उद्योगों में, सेमीकंडक्टर उद्योग में लक्ष्य स्पटरिंग फिल्म की गुणवत्ता के लिए सबसे अधिक आवश्यकताएं हैं।अब 12 इंच (300 एपिस्टेक्सिस) के सिलिकॉन वेफर्स का निर्माण किया गया है।इंटरकनेक्ट की चौड़ाई कम हो रही है.सिलिकॉन वेफर निर्माताओं को बड़े आकार, उच्च शुद्धता, कम पृथक्करण और लक्ष्य के महीन दाने की आवश्यकता होती है, जिसके लिए निर्मित लक्ष्य की बेहतर सूक्ष्म संरचना की आवश्यकता होती है।

　　2, प्रदर्शन

फ्लैट पैनल डिस्प्ले (एफपीडी) ने पिछले कुछ वर्षों में कैथोड-रे ट्यूब (सीआरटी) आधारित कंप्यूटर मॉनिटर और टेलीविजन बाजार को बहुत प्रभावित किया है, और यह आईटीओ लक्ष्य सामग्रियों के लिए प्रौद्योगिकी और बाजार की मांग को भी बढ़ाएगा।आईटीओ लक्ष्य दो प्रकार के होते हैं।एक है सिंटरिंग के बाद इंडियम ऑक्साइड और टिन ऑक्साइड पाउडर की नैनोमीटर अवस्था का उपयोग करना, दूसरा है इंडियम टिन मिश्र धातु लक्ष्य का उपयोग करना।

　　3. भण्डारण

भंडारण प्रौद्योगिकी के संदर्भ में, उच्च-घनत्व और बड़ी क्षमता वाली हार्ड डिस्क के विकास के लिए बड़ी संख्या में विशाल अनिच्छा फिल्म सामग्री की आवश्यकता होती है।CoF~Cu बहुपरत मिश्रित फिल्म विशाल अनिच्छा फिल्म की व्यापक रूप से उपयोग की जाने वाली संरचना है।चुंबकीय डिस्क के लिए आवश्यक TbFeCo मिश्र धातु लक्ष्य सामग्री अभी भी आगे के विकास में है।TbFeCo के साथ निर्मित चुंबकीय डिस्क में बड़ी भंडारण क्षमता, लंबी सेवा जीवन और बार-बार गैर-संपर्क मिटाने की विशेषताएं हैं।

　　लक्ष्य सामग्री का विकास:

सेमीकंडक्टर इंटीग्रेटेड सर्किट (वीएलएसआई), ऑप्टिकल डिस्क, प्लेनर डिस्प्ले और वर्कपीस की सतह कोटिंग्स में विभिन्न प्रकार की स्पटरिंग पतली फिल्म सामग्री का व्यापक रूप से उपयोग किया गया है।1990 के दशक से, स्पटरिंग लक्ष्य सामग्री और स्पटरिंग प्रौद्योगिकी के समकालिक विकास ने विभिन्न नए इलेक्ट्रॉनिक घटकों के विकास की जरूरतों को काफी हद तक पूरा किया है।