डेटा भंडारण उद्योग में उपयोग की जाने वाली लक्ष्य सामग्री को उच्च शुद्धता की आवश्यकता होती है, और स्पटरिंग के दौरान अशुद्धता कणों की उत्पत्ति से बचने के लिए अशुद्धियों और छिद्रों को कम किया जाना चाहिए।उच्च गुणवत्ता वाले उत्पादों के लिए उपयोग की जाने वाली लक्ष्य सामग्री के लिए आवश्यक है कि उसके क्रिस्टल कण का आकार छोटा और एक समान हो, और उसमें कोई क्रिस्टल अभिविन्यास न हो।नीचे, आइए लक्ष्य सामग्री के लिए ऑप्टिकल स्टोरेज उद्योग की आवश्यकताओं पर एक नज़र डालें?
1. पवित्रता
व्यावहारिक अनुप्रयोगों में, लक्ष्य सामग्रियों की शुद्धता विभिन्न उद्योगों और आवश्यकताओं के अनुसार भिन्न होती है।हालाँकि, कुल मिलाकर, लक्ष्य सामग्री की शुद्धता जितनी अधिक होगी, थूकने वाली फिल्म का प्रदर्शन उतना ही बेहतर होगा।उदाहरण के लिए, ऑप्टिकल स्टोरेज उद्योग में, लक्ष्य सामग्री की शुद्धता 3N5 या 4N से अधिक होनी आवश्यक है
2. अशुद्धता सामग्री
लक्ष्य सामग्री स्पटरिंग में कैथोड स्रोत के रूप में कार्य करती है, और छिद्रों में ठोस और ऑक्सीजन और जल वाष्प में अशुद्धियाँ पतली फिल्मों को जमा करने के लिए मुख्य प्रदूषण स्रोत हैं।इसके अलावा, विभिन्न उपयोगों के लक्ष्यों के लिए विशेष आवश्यकताएं भी हैं।उदाहरण के तौर पर ऑप्टिकल स्टोरेज उद्योग को लेते हुए, कोटिंग की गुणवत्ता सुनिश्चित करने के लिए स्पटरिंग लक्ष्यों में अशुद्धता सामग्री को बहुत कम नियंत्रित किया जाना चाहिए।
3. अनाज का आकार और आकार वितरण
आमतौर पर, लक्ष्य सामग्री में एक पॉलीक्रिस्टलाइन संरचना होती है, जिसमें अनाज का आकार माइक्रोमीटर से लेकर मिलीमीटर तक होता है।समान संरचना वाले लक्ष्यों के लिए, बारीक अनाज लक्ष्यों की स्पटरिंग दर मोटे अनाज लक्ष्यों की तुलना में तेज़ है।छोटे दाने के आकार के अंतर वाले लक्ष्यों के लिए, जमा की गई फिल्म की मोटाई भी अधिक समान होगी।
4. सघनता
ठोस लक्ष्य सामग्री में सरंध्रता को कम करने और फिल्म के प्रदर्शन में सुधार करने के लिए, आमतौर पर यह आवश्यक है कि स्पटरिंग लक्ष्य सामग्री में उच्च घनत्व हो।लक्ष्य सामग्री का घनत्व मुख्य रूप से तैयारी प्रक्रिया पर निर्भर करता है।पिघलने और कास्टिंग विधि द्वारा निर्मित लक्ष्य सामग्री यह सुनिश्चित कर सकती है कि लक्ष्य सामग्री के अंदर कोई छिद्र नहीं हैं और घनत्व बहुत अधिक है।
पोस्ट करने का समय: जुलाई-18-2023