स्पटर किए गए लक्ष्य सामग्रियों की उपयोग के दौरान उच्च आवश्यकताएं होती हैं, न केवल शुद्धता और कण आकार के लिए, बल्कि समान कण आकार के लिए भी।स्पटरिंग लक्ष्य सामग्री का उपयोग करते समय ये उच्च आवश्यकताएं हमें अधिक ध्यान देने पर मजबूर करती हैं।
1. स्पटरिंग की तैयारी
वैक्यूम चैम्बर, विशेषकर स्पटरिंग सिस्टम की स्वच्छता बनाए रखना बहुत महत्वपूर्ण है।स्नेहक, धूल, और पिछली कोटिंग्स का कोई भी अवशेष पानी जैसे प्रदूषक जमा कर सकता है, जो सीधे वैक्यूम को प्रभावित करता है और फिल्म निर्माण विफलता की संभावना को बढ़ाता है।शॉर्ट सर्किट, लक्ष्य आर्किंग, खुरदरी फिल्म बनाने वाली सतहें और अत्यधिक रासायनिक अशुद्धियाँ आमतौर पर अशुद्ध स्पटरिंग कक्षों, बंदूकों और लक्ष्यों के कारण होती हैं।
कोटिंग की संरचनागत विशेषताओं को बनाए रखने के लिए, स्पटरिंग गैस (आर्गन या ऑक्सीजन) साफ और सूखी होनी चाहिए।स्पटरिंग कक्ष में सब्सट्रेट स्थापित करने के बाद, प्रक्रिया के लिए आवश्यक वैक्यूम स्तर प्राप्त करने के लिए हवा निकालने की आवश्यकता होती है।
2. लक्ष्य सफाई
लक्ष्य सफाई का उद्देश्य लक्ष्य की सतह पर मौजूद किसी भी धूल या गंदगी को हटाना है।
3. लक्ष्य स्थापना
लक्ष्य सामग्री की स्थापना प्रक्रिया के दौरान ध्यान देने वाली सबसे महत्वपूर्ण बात लक्ष्य सामग्री और स्पटरिंग गन की शीतलन दीवार के बीच एक अच्छा थर्मल कनेक्शन सुनिश्चित करना है।यदि कूलिंग दीवार या पिछली प्लेट गंभीर रूप से विकृत है, तो लक्ष्य सामग्री की स्थापना के दौरान यह दरार या झुकने का कारण बन सकती है।पिछले लक्ष्य से लक्ष्य सामग्री तक गर्मी हस्तांतरण बहुत प्रभावित होगा, जिसके परिणामस्वरूप स्पटरिंग के दौरान गर्मी को नष्ट करने में असमर्थता होगी, जिससे अंततः लक्ष्य सामग्री में दरार या विचलन हो जाएगा।
4. शॉर्ट सर्किट और सीलिंग निरीक्षण
लक्ष्य सामग्री की स्थापना के बाद, शॉर्ट सर्किट और पूरे कैथोड की सीलिंग की जांच करना आवश्यक है।यह निर्धारित करने के लिए कि कैथोड शॉर्ट सर्किट है या नहीं, एक ओममीटर और एक मेगाहोमीटर का उपयोग करने की अनुशंसा की जाती है।यह पुष्टि करने के बाद कि कैथोड में शॉर्ट सर्किट नहीं हुआ है, कैथोड में पानी डालकर रिसाव का पता लगाया जा सकता है ताकि यह निर्धारित किया जा सके कि कोई रिसाव है या नहीं।
5. स्पटरिंग से पहले लक्ष्य सामग्री
लक्ष्य सामग्री के पूर्व स्पटरिंग के लिए शुद्ध आर्गन गैस का उपयोग करने की सिफारिश की जाती है, जो लक्ष्य सामग्री की सतह को साफ कर सकती है।लक्ष्य सामग्री के लिए पूर्व स्पटरिंग प्रक्रिया के दौरान स्पटरिंग शक्ति को धीरे-धीरे बढ़ाने की सिफारिश की जाती है।सिरेमिक लक्ष्य सामग्री की शक्ति
पोस्ट करने का समय: अक्टूबर-19-2023