रिच स्पेशल मटेरियल्स कंपनी लिमिटेड साझा करेगी कि लक्ष्य सामग्री की प्रदर्शन आवश्यकताएं क्या हैं

विभिन्न व्यवसायों में लक्ष्य सामग्री का व्यापक उपयोग लक्ष्य सामग्री की मांग को और अधिक बढ़ा देता है।निम्नलिखित हम ऐसा करेंगे संक्षेप में परिचय दें आप लक्ष्य, हॉप की प्राथमिक कार्यात्मक आवश्यकताएं क्या हैंइंग आपकी मदद करने के लिए।

शुद्धता: शुद्धता लक्ष्य के प्राथमिक कार्यात्मक संकेतकों में से एक है, क्योंकि लक्ष्य की शुद्धता का फिल्म के कार्य पर बहुत प्रभाव पड़ता है।लेकिन व्यवहार में, लक्ष्य सामग्री की शुद्धता समान नहीं है।उदाहरण के लिए, माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक्स पेशे के तेजी से विकास के साथ, सिलिकॉन वेफर का आकार 6″, 8″ से 12″ तक विकसित हो गया है, और वायरिंग की चौड़ाई 0.5um से घटकर 0.25um, 0.18um और यहां तक ​​कि 0.13um हो गई है।एक बार 99.995% लक्ष्य शुद्धता 0.35UMIC की तकनीकी आवश्यकताओं को पूरा कर सकती है।0.18um लाइन की तैयारी के लिए लक्ष्य सामग्री की 99.999% या यहां तक ​​कि 99.9999% शुद्धता की आवश्यकता होती है।

घनत्व: लक्ष्य ठोस में सरंध्रता को कम करने और स्पटरिंग फिल्म के कार्य में सुधार करने के लिए, लक्ष्य को आमतौर पर उच्च घनत्व की आवश्यकता होती है।लक्ष्य घनत्व न केवल स्पटरिंग दर बल्कि फिल्मों के विद्युत और ऑप्टिकल गुणों को भी प्रभावित करता है।लक्ष्य घनत्व जितना अधिक होगा, फिल्म का कार्य उतना ही बेहतर होगा। इसके अलावा, स्पटरिंग के दौरान थर्मल तनाव को बेहतर ढंग से झेलने में सक्षम बनाने के लिए लक्ष्य सामग्री का घनत्व और ताकत बढ़ा दी गई थी।घनत्व भी लक्ष्य पदार्थों के महत्वपूर्ण कार्यात्मक संकेतकों में से एक है।

　　अशुद्धता सामग्री: लक्ष्य ठोस में अशुद्धियाँ और छिद्रों में ऑक्सीजन और जल वाष्प संचित फिल्मों के प्राथमिक प्रदूषण स्रोत हैं। विभिन्न प्रयोजनों के लिए अलग-अलग लक्ष्य सामग्री में अलग-अलग अशुद्धता सामग्री के लिए अलग-अलग आवश्यकताएं होती हैं।उदाहरण के लिए, सेमीकंडक्टर उद्योग में उपयोग किए जाने वाले शुद्ध एल्यूमीनियम और एल्यूमीनियम मिश्र धातु लक्ष्यों में क्षार धातु सामग्री और रेडियोधर्मी तत्व सामग्री के लिए विशेष आवश्यकताएं होती हैं।