कुछ ग्राहकों ने सिलिकॉन स्पटरिंग लक्ष्य के बारे में पूछा।अब, आरएसएम प्रौद्योगिकी विभाग के सहकर्मी आपके लिए सिलिकॉन स्पटरिंग लक्ष्यों का विश्लेषण करेंगे।
सिलिकॉन स्पटरिंग लक्ष्य सिलिकॉन पिंड से धातु को स्पटर करके बनाया जाता है।लक्ष्य का निर्माण विभिन्न प्रक्रियाओं और तरीकों से किया जा सकता है, जिसमें इलेक्ट्रोप्लेटिंग, स्पटरिंग और वाष्प जमाव शामिल हैं।पसंदीदा अवतार वांछित सतह स्थितियों को प्राप्त करने के लिए अतिरिक्त सफाई और नक़्क़ाशी प्रक्रिया प्रदान करते हैं।उत्पादित लक्ष्य अत्यधिक परावर्तक है, जिसमें 500 एंगस्ट्रॉम से कम खुरदरापन और अपेक्षाकृत तेज़ जलने की गति है।सिलिकॉन लक्ष्य द्वारा तैयार फिल्म में कण संख्या कम होती है।
सिलिकॉन स्पटरिंग लक्ष्य का उपयोग सिलिकॉन आधारित सामग्रियों पर पतली फिल्म जमा करने के लिए किया जाता है।इनका उपयोग आमतौर पर डिस्प्ले, सेमीकंडक्टर, ऑप्टिकल, ऑप्टिकल संचार और ग्लास कोटिंग अनुप्रयोगों में किया जाता है।वे उच्च तकनीक वाले घटकों को उकेरने के लिए भी उपयुक्त हैं।एन-प्रकार के सिलिकॉन स्पटरिंग लक्ष्य का उपयोग विभिन्न उद्देश्यों के लिए किया जा सकता है।यह इलेक्ट्रॉनिक्स, सौर सेल, अर्धचालक और डिस्प्ले सहित कई क्षेत्रों पर लागू होता है।
सिलिकॉन स्पटरिंग लक्ष्य एक स्पटरिंग सहायक उपकरण है जिसका उपयोग सतह पर सामग्री जमा करने के लिए किया जाता है।आमतौर पर इसमें सिलिकॉन परमाणु होते हैं।स्पटरिंग प्रक्रिया के लिए सटीक मात्रा में सामग्री की आवश्यकता होती है, जो एक बड़ी चुनौती हो सकती है।सिलिकॉन आधारित घटकों को बनाने का एकमात्र तरीका आदर्श स्पटरिंग उपकरण का उपयोग करना है।यह ध्यान देने योग्य है कि स्पटरिंग प्रक्रिया में सिलिकॉन स्पटरिंग लक्ष्य का उपयोग नहीं किया जाता है।
पोस्ट करने का समय: अक्टूबर-24-2022