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बड़े क्षेत्र कोटिंग की उत्पादन गुणवत्ता पर लक्ष्य सामग्री के प्रभाव क्या हैं?

  आधुनिक इमारतों ने कांच की रोशनी के बड़े क्षेत्रों का उपयोग करना शुरू कर दिया।यह पहलू हमें उज्जवल कमरे और व्यापक क्षितिज देता है।दूसरी ओर, कांच के माध्यम से प्रेषित गर्मी आसपास की दीवारों की तुलना में बहुत अधिक होती है, और पूरे भवन की ऊर्जा खपत में काफी वृद्धि होती है।.

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  विकसित देशों में 90% से अधिक कम-विकिरण ग्लास की उपयोग दर की तुलना में, चीन में कम-ई ग्लास की प्रवेश दर केवल 12% है, और चीन में अभी भी विकास के लिए बहुत जगह है। हालांकि, तुलना में साधारण ग्लास और ऑनलाइन लो-ई ग्लास, ऑफ़लाइन लोई ग्लास की उत्पादन लागत अधिक है, जो एक निश्चित डिग्री के आवेदन को प्रतिबंधित करती है। घरेलू ग्लास प्रसंस्करण उद्यमों का दायित्व है कि वे कोटिंग उत्पादों की उत्पादन लागत को लगातार कम करें, कार्यान्वयन में तेजी लाएं, ऊर्जा बचाएं, पर्यावरण में सुधार करें और सामाजिक सतत विकास हासिल करें।

  1मैंलक्ष्य आकार का प्रभाव

  कोटिंग के बड़े क्षेत्र अक्सर आकार के अनुसार लक्ष्य सामग्री का उपयोग करते हैं, जिसमें तलीय अभिविन्यास और घूर्णी अभिविन्यास शामिल हैं।सामान्य तलीय लक्ष्यों में तांबे का लक्ष्य, चांदी का लक्ष्य,Ni-Cr लक्ष्य और ग्रेफाइट लक्ष्य।सामान्य घूर्णन लक्ष्य में जस्ता एल्यूमीनियम लक्ष्य, जस्ता टिन लक्ष्य, सिलिकॉन एल्यूमीनियम लक्ष्य, टिन लक्ष्य, टाइटेनियम ऑक्साइड लक्ष्य, जस्ता ऑक्साइड एल्यूमीनियम लक्ष्य और इतने पर हैं। लक्ष्य आकार मैग्नेट्रोन स्पटरिंग कोटिंग की स्थिरता और फिल्म गुणों को प्रभावित करेगा, और उपयोग लक्ष्य की दर बहुत अधिक है।लक्ष्य की आकार योजना को बदलने के बाद, कोटिंग की गुणवत्ता और उत्पादन शक्ति में सुधार किया जा सकता है और लागत को बचाया जा सकता है.

  2मैंसापेक्ष घनत्व और लक्ष्य की निकासी का प्रभाव

लक्ष्य में सापेक्ष घनत्व लक्ष्य के सैद्धांतिक घनत्व के लिए व्यावहारिक घनत्व का अनुपात है, एकल घटक लक्ष्य का सैद्धांतिक घनत्व क्रिस्टल घनत्व है, और मिश्र धातु या मिश्रण लक्ष्य के सैद्धांतिक घनत्व की गणना सैद्धांतिक के अनुसार की जाती है। प्रत्येक तत्व का घनत्व और मिश्र धातु या मिश्रण में अनुपात..थर्मल स्प्रेयर की लक्ष्य व्यवस्था झरझरा, अत्यधिक ऑक्सीजन युक्त (वैक्यूम स्प्रे के साथ भी, मिश्र धातु लक्ष्य में ऑक्साइड और नाइट्रस यौगिकों का उत्पादन अपरिहार्य है), और उपस्थिति ग्रे है और इसमें धातु की चमक नहीं है।अधिशोषित अशुद्धियाँ और नमी प्रदूषण के प्राथमिक स्रोत हैं।

3मैंलक्ष्य कण आकार और क्रिस्टल दिशा का प्रभाव

लक्ष्य के समान भार में, छोटे कण आकार वाला लक्ष्य बड़े कण आकार वाले लक्ष्य से तेज होता है।यह मुख्य रूप से है क्योंकि छींटे की प्रक्रिया में कण सीमा पर आक्रमण करना आसान है, कण सीमा जितनी अधिक होगी, फिल्म का निर्माण उतना ही तेज होगा।कण आकार न केवल स्पटरिंग गति को प्रभावित करता है, बल्कि फिल्म निर्माण की गुणवत्ता को भी प्रभावित करता है। उदाहरण के लिए, ईओईई उत्पादों की उत्पादन प्रक्रिया में, एनसीआर इन्फ्रारेड परावर्तक परत एजी की रखरखाव परत के रूप में कार्य करता है, और इसकी गुणवत्ता पर बहुत प्रभाव पड़ता है कोटिंग उत्पाद।NiCr फिल्म परत के बड़े विलुप्त होने के गुणांक के कारण, यह आम तौर पर पतला (लगभग 3nm) होता है। यदि कण का आकार बहुत बड़ा है, तो स्पटरिंग का समय कम हो जाता है, फिल्म परत का घनत्व खराब हो जाता है, Ag परत का रखरखाव प्रभाव। घटता है, और कोटिंग उत्पादों के ऑक्सीकरण decoating के बारे में लाया जाता है।

  निष्कर्ष

  लक्ष्य सामग्री की आकार योजना मुख्य रूप से लक्ष्य सामग्री की उपयोग दर को प्रभावित करती है।उचित आकार की योजना लक्ष्य सामग्री की उपयोग दर में सुधार कर सकती है और लागत को बचा सकती है। कण आकार जितना छोटा होगा, कोटिंग की गति जितनी तेज होगी, एकरूपता उतनी ही बेहतर होगी।शुद्धता और घनत्व जितना अधिक होगा, सरंध्रता कम होगी, फिल्म की गुणवत्ता उतनी ही बेहतर होगी, और डिस्चार्ज स्लैग में कमी की संभावना कम होगी।


पोस्ट करने का समय: अप्रैल-27-2022