अब अधिक से अधिक उपयोगकर्ता लक्ष्य के प्रकार को समझते हैं औरइसके अनुप्रयोग, लेकिन इसका उपविभाजन बहुत स्पष्ट नहीं हो सकता है.अब चलोआरएसएम इंजीनियर तुम्हारे साथ साझा करनाकुछ प्रेरण मैग्नेट्रोन स्पटरिंग लक्ष्यों का.
स्पटरिंग लक्ष्य: धातु स्पटरिंग कोटिंग लक्ष्य, मिश्र धातु स्पटरिंग कोटिंग लक्ष्य, सिरेमिक स्पटरिंग कोटिंग लक्ष्य, बोराइड सिरेमिक स्पटरिंग लक्ष्य, कार्बाइड सिरेमिक स्पटरिंग लक्ष्य, फ्लोराइड सिरेमिक स्पटरिंग लक्ष्य, नाइट्राइड सिरेमिक स्पटरिंग लक्ष्य, ऑक्साइड सिरेमिक लक्ष्य, सेलेनाइड सिरेमिक स्पटरिंग लक्ष्य, सिलिसाइड सिरेमिक स्पटरिंग लक्ष्य, सल्फाइड सिरेमिक स्पटरिंग लक्ष्य, टेलुराइड सिरेमिक स्पटरिंग लक्ष्य, अन्य सिरेमिक लक्ष्य, क्रोमियम डोप्ड सिलिकॉन ऑक्साइड सिरेमिक लक्ष्य (सीआर SiO), इंडियम फॉस्फाइड लक्ष्य (आईएनपी), लेड आर्सेनाइड लक्ष्य (पीबीए), इंडियम आर्सेनाइड लक्ष्य (आईएनएएस)।
मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग को आम तौर पर दो प्रकारों में विभाजित किया जाता है: डीसी स्पटरिंग और आरएफ स्पटरिंग।डीसी स्पटरिंग उपकरण का सिद्धांत सरल है, और धातु स्पटरिंग करते समय इसकी दर भी तेज होती है।आरएफ स्पटरिंग का व्यापक रूप से उपयोग किया जाता है।प्रवाहकीय डेटा को स्पटर करने के अलावा, यह गैर-प्रवाहकीय डेटा को भी स्पटर कर सकता है।स्पटरिंग लक्ष्य का उपयोग ऑक्साइड, नाइट्राइड और कार्बाइड जैसे यौगिक डेटा तैयार करने के लिए प्रतिक्रियाशील स्पटरिंग के लिए भी किया जा सकता है।यदि आरएफ आवृत्ति बढ़ती है, तो यह माइक्रोवेव प्लाज्मा स्पटरिंग बन जाएगी।वर्तमान में, इलेक्ट्रॉन साइक्लोट्रॉन अनुनाद (ईसीआर) माइक्रोवेव प्लाज्मा स्पटरिंग का आमतौर पर उपयोग किया जाता है।
पोस्ट समय: मई-26-2022