वैक्यूम कोटिंग सामग्री CoFeTaZr लक्ष्य कोबाल्ट-आयरन-टैंटलम-ज़िरकोनियम मिश्र धातु लक्ष्य मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग लक्ष्य

वैक्यूम कोटिंग सामग्रीCoFeTaZr लक्ष्यकोबाल्ट-आयरन-टैंटलम-ज़िरकोनियम मिश्र धातु लक्ष्य मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग लक्ष्य,
CoFeTaZr लक्ष्य,
क्रोमियम कोबाल्ट स्पटरिंग लक्ष्यरिच स्पेशल मटेरियल से एक चांदी मिश्र धातु स्पटरिंग सामग्री है जिसमें सीआर और कंपनी शामिल है।

क्रोमियम एक रासायनिक तत्व है जिसकी उत्पत्ति ग्रीक 'क्रोमा' से हुई है, जिसका अर्थ है रंग।इसका उपयोग 1 ईस्वी से पहले किया गया था और टेराकोटा सेना द्वारा इसकी खोज की गई थी।"Cr" क्रोमियम का विहित रासायनिक प्रतीक है।तत्वों की आवर्त सारणी में इसका परमाणु क्रमांक 24 है और इसका स्थान आवर्त 4 और समूह 6 पर है, जो डी-ब्लॉक से संबंधित है।क्रोमियम का सापेक्ष परमाणु द्रव्यमान 51.9961(6) डाल्टन है, कोष्ठक में संख्या अनिश्चितता को दर्शाती है।

कोबाल्ट एक रासायनिक तत्व है जिसकी उत्पत्ति जर्मन शब्द 'कोबाल्ड' से हुई है, जिसका अर्थ है भूत।इसका पहली बार उल्लेख 1732 में किया गया था और जी. ब्रांट द्वारा इसका अवलोकन किया गया था।"Co" कोबाल्ट का विहित रासायनिक प्रतीक है।तत्वों की आवर्त सारणी में इसका परमाणु क्रमांक 27 है और इसका स्थान आवर्त 4 और समूह 9 पर है, जो डी-ब्लॉक से संबंधित है।कोबाल्ट का सापेक्ष परमाणु द्रव्यमान 58.933195(5) डाल्टन है, कोष्ठक में संख्या अनिश्चितता को दर्शाती है।

क्रोनियम कोबाल्ट स्पटरिंग लक्ष्य वैक्यूम मेल्टिंग और पीएम के माध्यम से निर्मित होते हैं।CrCo में बेहतर विशिष्ट ताकत है और इसका उपयोग विभिन्न क्षेत्रों में किया गया है जहां एयरोस्पेस उद्योग, कटलरी, बियरिंग्स, ब्लेड आदि सहित उच्च पहनने के प्रतिरोध की आवश्यकता थी।

रिच स्पेशल मटेरियल स्पटरिंग टारगेट के निर्माण में माहिर है और ग्राहकों के विनिर्देशों के अनुसार क्रोनियम कोबाल्ट स्पटरिंग सामग्री का उत्पादन कर सकता है।अधिक जानकारी के लिए, कृपया हमसे संपर्क करें। ज़िरकोनियम आयरन कोबाल्ट टैंटलम लक्ष्य सामग्री लक्ष्य सामग्री के उच्च वैक्यूम पिघलने से उच्च शुद्धता वाले कोबाल्ट, लोहा, टैंटलम, ज़िरकोनियम से बनी होती है, प्रौद्योगिकी लक्ष्य उत्पाद की ऑक्सीजन सामग्री और उपयोग को प्रभावी ढंग से नियंत्रित कर सकती है मोल्ड की विशेष शीतलन, मिश्र धातु तरल तेजी से शीतलन है, मिश्र धातु लक्ष्य सामग्री समान संरचना, समान संरचना वितरण, छोटे, उच्च तापमान और उच्च दबाव घनत्व प्रसंस्करण के माध्यम से, सामग्री को बहुत घना बनाती है, यह उच्च स्पटरिंग के लिए गारंटी प्रदान करती है गुणवत्तापूर्ण फिल्में.गर्मी उपचार के बाद, लक्ष्य का चुंबकीय सिर अनुपात (पीटीएफ) काफी बढ़ जाता है, और कोबाल्ट-आयरन-टैंटलम-ज़िरकोनियम लक्ष्य द्वारा जमा की गई पतली फिल्में ऊर्ध्वाधर चुंबकीय रिकॉर्डिंग फिल्म में महत्वपूर्ण नरम चुंबकीय परतें हैं।